Den Zilwäert vun der relativer Fiichtegkeet an engem Halbleiter (FAB) propper Raum

Den Zilwäert vun der relativer Fiichtegkeet an engem Halbleiter (FAB) propper Raum ass ongeféier 30 bis 50%, wat e schmuele Feelermarge vun ± 1% erlaabt, sou wéi an der Lithographiezone - oder nach manner an der wäit ultraviolet Veraarbechtung (DUV) Zone - wärend soss anzwousch kann et op ± 5% entspaant ginn.
Well d'relativ Fiichtegkeet eng Rei vu Faktoren huet, déi d'Gesamtleistung vu propperem Zëmmer reduzéiere kënnen, dorënner:
1. Bakterienwachstum;
2. Raumtemperaturkomfortbereich fir Personal;
3. Elektrostatesch Ladung erschéngt;
4. Metallkorrosioun;
5. Waasserdampkondensatioun;
6. Degradatioun vun der Lithographie;
7. Waasser Absorptioun.

Bakterien an aner biologesch Verschmotzungen (Schimmel, Viren, Pilze, Milben) kënnen an Ëmfeld mat enger relativer Fiichtegkeet vu méi wéi 60% opbléien. E puer bakterielle Gemeinschafte kënne bei enger relativer Fiichtegkeet vu méi wéi 30% wuessen. D'Firma mengt datt d'Fiichtegkeet am Beräich vun 40% bis 60% kontrolléiert soll ginn, wat den Impakt vu Bakterien an Atmungsinfektiounen miniméiere kann.

Relativ Fiichtegkeet am Beräich vun 40% bis 60% ass och e moderéierte Beräich fir mënschlech Confort. Ze vill Fiichtegkeet kann d'Leit versteppt fillen, während Fiichtegkeet ënner 30% d'Leit dréchen, gekrackt Haut, Otemschwieregkeeten an emotional Ongléck fillen.

Déi héich Fiichtegkeet reduzéiert tatsächlech d'Akkumulation vun elektrostatesche Ladungen op der Cleanroom Uewerfläch - e gewënschte Resultat. Niddereg Fiichtegkeet ass ideal fir Ladenakkumulatioun an eng potenziell schiedlech Quell vun elektrostatescher Entladung. Wann d'relativ Fiichtegkeet méi wéi 50% iwwerschreift, fänken d'elektrostatesch Ladungen séier opzeléisen, awer wann d'relativ Fiichtegkeet manner wéi 30% ass, kënne se laang op engem Isolator oder op enger ongegrënnter Uewerfläch bestoe bleiwen.

Relativ Fiichtegkeet tëscht 35% an 40% kann als zefriddestellend Kompromiss benotzt ginn, an semiconductor propper Zëmmeren benotzen allgemeng zousätzlech Kontrollen der Heefung vun electrostatic Käschten ze limitéieren.

D'Geschwindegkeet vu ville chemesche Reaktiounen, dorënner Korrosiounsprozesser, wäert eropgoen mat der Erhéijung vun der relativer Fiichtegkeet. All Flächen, déi un der Loft ronderëm de proppere Raum ausgesat sinn, si séier.